在正常鍍鉻工藝條件下，鉻鍍層硬度為HRC55~HRC65和HV750~HV1200。電鍍鉻比由高溫冶金法得到的金屬鉻硬度高得多，硬的鉻鍍層可達(dá)到剛玉的硬度，比其他的現(xiàn)有電鍍層硬度都高。例如，它是鐵、鈷和鎳硬度的2倍左右。它的硬度比經(jīng)過(guò)滲碳、滲氮、碳氮共滲、硬化處理的鋼以及經(jīng)過(guò)熱處理的合金結(jié)構(gòu)鋼的硬度都高。電鍍時(shí)的氫、外來(lái)離子的性質(zhì)、內(nèi)應(yīng)力增加是鉻鍍層具有高硬度的主要因素。
材料抵抗硬物壓入表面的能力叫做硬度。在測(cè)定鍍層硬度時(shí)，常使用維氏硬度計(jì)，可根據(jù)鍍層厚度只要5~200gf的小壓荷使壓痕深度達(dá)到鍍層厚度的1/7~ 1/10,在鍍層斷面上測(cè)定硬度時(shí)，可以針對(duì)鍍層厚度選擇適當(dāng)?shù)膲汉桑瑴y(cè)度方法相同，測(cè)出的硬度誤差較小。加厚鉻鍍層如果大于100um時(shí)可采用洛氏硬度計(jì)，在非工作面上進(jìn)行測(cè)定鉻鍍層硬度。這種方法測(cè)定時(shí)可以直接看出鉻鍍層的硬度，使用較方便。